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彤程新材(603650)拟投资 6.98 亿元建设 ArF 高端光刻胶研发平台建设项目

近日,彤程新材料集团股份有限公司发布公告称,决定通过其全资子公司-上海彤程电子材料有限公司在上海化学工业区内使用自筹资金人民币 6.9853 亿元,投资建设“ArF 高端光刻胶研发平台建设项目”,项目预计于 2023 年末建设完成。


该项目主要研究 ArF 湿法光刻胶工业化生产技术开发,通过建立标准化的生产及控制流程,提升高端光刻胶的质量控制水平,实现 193nm 湿法光刻胶量产生产;同时,逐步建立先进的集成电路及配套材料开发与应用评价平台。

ArF 光刻胶工业化生产开发主要涉及的内容包括: 

(1)193nm 光刻胶生产过程中的微小颗粒的控制技术,研究 0.15μm 及以下颗粒在精细化生产过程中的控制技术;

(2)193nm 光刻胶中痕量金属离子杂质的控制技术,从原料、生产设备及生产工艺等环节入手研究 ppb/ppt 级别的金属离子含量控制技术,以及国产化原料及装备的可替代性; 

(3)对光刻胶的作用机理进行研究,通过对缺陷的检测发现及成因分析,提高 193nm 光刻胶生产批次稳定性控制技术。

krF 光刻胶是先进集成电路芯片制造的关键材料,广泛应用于 90nm~14nm 甚至更小线宽的技术节点的各种高端 IC 芯片的生产制造。但开发技术难度大、质量要求高,产品基本掌握在国外专业厂商手中。

2021 年一季度,全球光刻胶市场维持增长态势再创新高,达到 5.67 亿美元,较上年同期增长 19.5%。中国大陆光刻胶市场达 1.1 亿美元,较上年同期增长 52.7%。从产品结构来看,2020 年,ArF 光刻胶占比 40%;KrF 光刻胶占比 39%;G/I 线光刻胶占比 20%。随着中国半导体产业的发展,制造工艺制成的不断缩小,KrF 和 ArF 光刻胶市场需求量快速增加,是推动当下光刻胶市场快速增长的主要因素。

该项目将进一步深化彤程新材在电子材料领域的业务布局,弥补国内光刻胶技术与全球先进水平的差距。

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