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10天前
半导体 资讯 光刻胶
LG化学计划开发半导体后端工艺光刻胶
据外媒报道,LG化学开始开发用于半导体后端工艺的光刻胶 (PR),目标是向全球半导体公司供应这些光刻胶。为了提高芯片性能,他们在半导体前端工艺上雕刻超精细电路图案后,正在开发用于后端工艺的PR。
5
5月前
半导体 资讯 光刻胶
上海新阳与贺利氏签订合作协议,共同开发半导体行业用光刻胶产品及相关材料
近日,上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告称,上海新阳于 2021 年 12 月 16 日与 Heraeus 签署了《合作备忘录》,计划共同开发半导体行业用光刻胶产品及相关材料。
70
8月前
半导体 光刻胶 材料 资讯
艾迪科宣布投资27亿日元在千叶工厂新增光刻胶用光酸产生剂产能
提高用于如EUV(极紫外)等半导体先进光刻工艺的光酸产生剂的生产能力,产能将为原来的2倍以上。该项目预计将于2022年3月开工,并于2023年中期实现运营投产。
94
9月前
半导体 光刻胶 资讯
彤程新材(603650)拟投资 6.98 亿元建设 ArF 高端光刻胶研发平台建设项目
该项目主要研究 ArF 湿法光刻胶工业化生产技术开发,通过建立标准化的生产及控制流程,提升高端光刻胶的质量控制水平,实现 193nm 湿法光刻胶量产生产;同时,逐步建立先进的集成电路及配套材料开发与应用评价平台。
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