提高用于如EUV（极紫外）等半导体先进光刻工艺的光酸产生剂的生产能力，产能将为原来的2倍以上。该项目预计将于2022年3月开工，并于2023年中期实现运营投产。

该项目主要研究 ArF 湿法光刻胶工业化生产技术开发，通过建立标准化的生产及控制流程，提升高端光刻胶的质量控制水平，实现 193nm 湿法光刻胶量产生产；同时，逐步建立先进的集成电路及配套材料开发与应用评价平台。