据了解，三菱化学或以其在日本福冈县的事务所为中心，为新工厂选址。报道称，三菱化学选址是考虑到半导体龙头台积电有在与福冈县同处九州岛的熊本县设厂，扩充供应链的机会较高。三菱化学正在积极投资，以期强化公司半导体相关事业。
报道表示，三菱化学使用的半导体光刻胶目前由神奈川县的工厂制造，但随着面向智能手机、电脑等更为精细的需求，制造的难易度也在上涨。公司预计未来客户对相关业务需求会逐渐上升。
光刻胶是电子工业中的一种关键化工产品，其功能主要是“转移图形”。
光刻胶又称为光致抗蚀剂，是一种感光材料，其中的感光成分在光的照射下会发生化学变化，从而引起溶解速率的改变，其主要作用是将掩模版上的图形转移到晶圆片等衬底上。光刻胶的工作原理如图所示。首先，将光刻胶涂布在衬底片上，前烘去除其中的溶剂；其次，透过掩模版进行曝光，使曝光部分的感光组分发生化学反应；然后，进行曝光后烘烤；最后通过显影将光刻胶部分溶解（对于正光刻胶，曝光区域被溶解；对于负光刻胶，未曝光区域被溶解），从而实现集成电路图形从掩模版到衬底片的转移。
光刻胶工作原理
目前，全球高端光刻胶市场主要被日本和美国企业所垄断，国产光刻胶在技术和市场上都面临巨大的挑战。过去，由于国产光刻胶技术水平较低，国内芯片制造企业不得不依赖进口光刻胶。然而，在当前国际政治经济环境下，国产芯片制造业面临着前所未有的压力。为了保障国家信息安全和科技自主，国产光刻胶的研发和应用已经迫在眉睫。
据Plasteurope9月18日报道，三菱化学打算将其位于英国赫尔（Hull）的SoarnoL品牌乙烯-乙烯醇共聚物（EVOH）的产能提高一倍以上。据悉，该公司目前的年产量为18,000吨。三菱表示，到2025年7月，年产量将增至3.9万吨，并补充说该工厂已于2023年4月开工建设。详情请点击【化工新材料】往期推文：需求激增！我国被“卡脖子”！三菱化学宣布扩能这一新材料！
据此前媒体报道，三菱化学正考虑最快2027年将其石化业务上市，计划与其他合作伙伴以合资企业形式经营该业务。
来源：化工新材料
原文始发于微信公众号（艾邦高分子）：又一“卡脖子”新材料！三菱化学再布局！产能翻倍！